我國10納米節點以下先進產能占17% 83%市場在10納米以上節點

本月早些時候，在中國工程院主辦的“中國工程院信息與電子工程前沿論壇”上，中國工程院院士吳漢明對我們目前面臨的光刻機、產業鏈國產化等關鍵問題進行了分析。

他認為，我國集成電路產業目前正面臨兩大壁壘：政策壁壘和產業性壁壘。前者包括巴統和瓦森納協議，后者則是世界半導體龍頭長期以來積累的專利。

他表示，目前我國許多集成電路行業處于落后狀態，例如三大卡脖子領域：裝備、制造、半導體材料。不過目前摩爾定律放緩，這給我們帶來了追趕的機會。

據悉，目前我國 10 納米節點以下先進產能占 17%，83% 市場在 10 納米以上節點，在先進制程研發不占優勢的情況下，我國可以運用成熟的工藝，把芯片的性能提升。

他因此提出了一個觀點：本土可控的 55nm 芯片制造，比完全進口的 7nm 更有意義。不過吳漢明同樣強調，自主可控固然重要，但也要認識到集成電路產業是全球性的產業。

他以 EUV 光刻機為例：最新光刻機約涉及到十多萬零部件，也需要 5000 多家供應商支撐，其中 32% 在荷蘭和英國，27% 供應商在美國，14% 在德國，27% 在日本，這就體現了全球化技術協作的結果。