江蘇南大光電材料股份有限公司發布公告稱，寧波南大光電材料有限公司(以下簡稱“寧波南大光電”)自主研發的 ArF 光刻膠產品繼 2020 年 12 月在一家存儲芯片制造企業的 50nm 閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業 55nm 技術節點的產品上取得了認證突破。
據悉本次認證系選擇客戶 55nm 技術節點邏輯芯片產品的工藝進行驗證，寧波南大光電研發的 ArF 光刻膠的測試良率結果符合要求，表明其具備 55nm 平臺后段金屬布線層的工藝要求。
ArF 光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于 90nm-14nm甚至 7nm 技術節點的集成電路制造工藝。廣泛應用于高端芯片制造(如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等)。ArF 光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內 IC 行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。
